光刻機作為制造芯片的最核心設備，直接引導了全球半導體市場的走向，而作為唯一能夠生產光刻機的企業(yè)，荷蘭ASML公司地位也愈發(fā)的凸顯。
ASML是唯一有能力制造EUV光刻機的企業(yè)，同時其采用浸潤系統(tǒng)研發(fā)的DUV光刻機，至今也沒有企業(yè)能夠突破，可以說中高端市場被其完全壟斷了。
雖然壟斷了全球市場，但ASML的處境也并不好受，其名義上就是一個“組裝廠”，核心的零部件和技術，來自于不同的二十多個國家，而含美技術占據了主要部分，也讓其逐步失去了自由經營權。
而臺積電始終都沒有失去優(yōu)先供貨權，主要原因在于二者處于相輔相成的狀態(tài)，ASML研發(fā)更為尖端的光刻機，需要臺積電給予的數據反饋，同時也給予了大量的技術支持。
但國內市場想要獲取光刻機可就難了，中芯國際在3年前就訂購了EUV光刻機，但至今都沒有任何出貨的消息，這也導致中芯國際的制程工藝卡在了14nm上。
情況開始轉變了
在老美的強行干預之下，ASML就算是出口DUV光刻機給我們，都受到了一定的限制，還是在全球半導體聯(lián)盟的壓力之下，才有所放開的，但在EUV光刻機的供應上，還是處于寸步不讓的狀態(tài)。
但在進入到2022年之后，情況逐步發(fā)生了變化，芯片等規(guī)則被修改后，ASML的DUV光刻機也不能自由出貨，尤其是在美生產制造的DUV光刻機等設備，而EUV光刻機也不能出貨到外企中國分廠。
結果進入2022年后，情況就發(fā)生了明顯的變化，逐步開始產生了“叛逆”心理，一直呼吁恢復自由出貨無果之后，ASML開始展開了行動，開始加速對于中國市場的布局。
根據最新的數據反饋，在今年的第一季度，ASML已經向國內的廠商出貨了23臺的EUV光刻機，而且這樣的出貨速度，遠超之前出貨量，要知道此前總計才向國內出口了50余臺的DUV光刻機。
而ASML最新的一代光刻機，也已經有了相應的進展，全新的High NA EUV光刻機的原型機，將會在2023年完成亮相，預計會在2024年下半年完成量產，這意味著芯片將進入到下一個時代了。
而瓦森納協(xié)議限定的是最先進的光刻機，不允許出口給我們，但是在High NA EUV光刻機正式出貨之后，意味著EUV光刻機不再是最先進的產品了，自然在出口給中國市場上就不受影響了。
ASML全力展開對中國市場的布局
似乎ASML早就意識到這個問題了，近期也展開了一系列針對中國市場的布局，之前我們都以為是在討好中國市場，沒想到這是ASML在為光刻機大量出口在提前布局。
ASML位于國內的研發(fā)中心，也不斷在擴大規(guī)模，目前還有計劃新增200多名研發(fā)人員，屆時中國員工的數量將突破1500名，而國內的維修中心也已經在建設當中了。
如果說單純依靠DUV光刻機的體量，是不需要有這么多的規(guī)劃的，畢竟國產的DUV光刻機即將實現(xiàn)量產，而這一切的準備，有很大概率是為了EUV光刻機的出貨。
面對這樣的情況，美媒更是直言：“ASML已經開始有點叛逆了！”不僅加速了DUV光刻機的出口速度，而且還變相透露了EUV光刻機的只有出貨時間。
但做出這樣的反常舉動，也間接說明了ASML已經被逼到走投無路了，本身就只是一個光刻機制造工廠，所有的營收都來自于設備的出口，老美一下子切斷了中國市場的供應，無異于斷了它的“財路”。
雖然老美一直在加強本土市場的建設，但奈何其根本就沒有那么大的能量，也不能帶動光刻機的實際需求量，關于這一點臺積電很早之前就有所表態(tài)，因此ASML只能把更多的注意力，放在了其它的市場上。
而中國市場作為最重要的部分，在受到老美的強行干預之下，在市場份額上依然能夠達到14%，成功超越了美本土市場，位居全球第三的位置。
由于ASML不能自由出貨，導致很多國家和地區(qū)自研技術，都在尋找全新的可替代的新技術，試圖擺脫對于美技術體系的依賴。
類似于鎧俠推出的NIL工藝、華為的光量子芯片、全球都在研發(fā)的碳基芯片等等，都在朝著擺脫光刻機的目標前行，已經證實了在沒有EUV光刻機的情況下，是能夠將芯片制程工藝縮小至5nm的。
一旦有了新技術的產生，不僅僅是ASML的地位降低，連老美耗費多年的研發(fā)成果，所建立起來的技術體系也會被“瓦解土崩”，對此你們是怎么看的呢？
